四氟化碳又称四氟甲烷,被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定,但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体,如果遇到高热后会造成容器内压增大,有开裂、爆炸危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。
主要应用领域
四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子蚀刻气体,可广泛用于硅、二氧化硅,磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面都有着大量的应用。
需求不断增长,技术瓶颈不断被突破
根据新思界产业研究中心发布的《2021-2025年高纯四氟化碳行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示,我国电子信息产业不断发展壮大,叠加光伏产业规模不断扩张,国内市场对高纯四氟化碳需求持续增长。2011-2019年,我国高纯四氟化碳需求量年均复合增长率为14.6%,2019年需求量约为3660吨。我国人工智能、物联网市场仍在不断扩大,光伏发电累计装机容量不断上升,预计2020-2025年,我国高纯四氟化碳市场需求将继续以10.0%以上的增速增长。
2008年之前,我国不具备高纯四氟化碳量产能力,需求主要依靠进口,而进口产品供应不足,国内市场供小于求的状况长期存在。为配套我国电子、光伏产业发展,高纯四氟化碳实现国产化替代势在必行,在此背景下,我国进入行业布局的资本数量开始增多,相关技术瓶颈逐渐被打破。现阶段,国产高纯四氟化碳已经在国内市场中得到批量应用,占有率不断提高。